ESCAPE DUO（燃烧 - 水洗）使用端废气处理系统
适用于半导体及光伏工艺的紧凑型高性能系统
ESCAPE DUO—— 模块化燃烧 - 水洗系统，用于工艺气体的安全高效净化
废气处理
ESCAPE 系列产品是我们源头燃烧 - 水洗技术的核心基础，该技术已在市场上经过 25 年以上的验证。这款燃烧 - 水洗废气处理设备应用极具灵活性，可根据需求定制化设计，能够净化半导体及光伏行业产生的几乎所有工艺气体。
这套节省空间的系统可配置为不同高度，且无需专用工具即可轻松维护！介质供应方式也可灵活调整。可选配的工艺联动功能不仅提升安全性，还能降低运行成本 —— 实现源头处高效、可靠的废气处理。
ESCAPE DUO—— 工业工艺高效处理系统
微芯片、光伏组件、平板显示器和发光二极管等高性能高科技产品的制造，涉及高度复杂的多阶段生产工艺。这些工艺在多个子步骤中会产生废气，此类废气必须在源头处直接处理。
CVD——化学气相沉积
化学气相沉积（CVD）工艺通过化学反应在基材表面生成薄膜（例如氮化硅或多晶硅薄膜）。DAS Environmental Experts提供 ESCAPE、UPTIMUM、STYRAX 及 LARCH 等高效处理系统，专为 CVD 和 MOCVD 工艺的废气提供安全处理解决方案。
Etch——蚀刻工艺
蚀刻工艺通过化学物质实现材料的定向去除（例如在半导体制造中的应用）。DAS Environmental Experts依托燃烧 - 水洗技术，通过 ESCAPE 和 STYRAX 系统，为该工艺产生的含氟废气提供可靠处理方案。
燃烧/水洗技术 —— 安全废气处理解决方案
DAS Environmental Experts这款紧凑型燃烧 - 水洗组合系统，依托数十年废气处理经验研发而成。根据工艺气体的成分不同，其会在环形燃烧器中被氧化、还原或热解处理；后续的水洗洗涤环节可以稳定冷却并捕获生成的化合物。该使用端技术能安全高效处理工业废气（包括含氟化合物、氨气、硅烷或氢气的废气），目前已在全球半导体行业广泛应用。
借助 ESCAPE DUO 优化您的废气处理方案
信赖可靠的燃烧 - 水洗技术 —— 可根据您的生产需求进行个性化配置。
