LARCH(热分解)

LARCH 为我司专属产品系列,专为金属有机化合物气相沉积(MOCVD)与极紫外光刻(EUV)工艺的终端应用场景研发设计。

图片展示了一台大型白色工业设备,标有“LARCH”字样及“DAS”标识,配备控制面板、指示灯和多个隔间,代表“DAS EE出品的LARCH PLUS系统”。

LARCH 系列 —— 面向 LED 及氮化镓(GaN)行业 MOCVD 工艺的终端废气处理方案

LARCH 系列干式焚烧炉由DAS Environmental Experts公司研发设计,专为终端应用场景处理 LED、微型发光二极管(μLED)、氮化镓(GaN)领域的 MOCVD 工艺废气,以及极紫外光刻(EUV)工艺废气。

氧化与热分解组合处理工艺,以可持续的方式拓展了DAS的技术产品矩阵。

低投资与运营成本、简洁稳固的结构设计、低环境影响(无二氧化碳排放、氮氧化物排放量极低),是 LARCH 系列产品的核心优势。目前已投入运行的设备案例显示,其维护间隔可达六个月以上,且设备支持双侧检修。通过接入工艺设备接口,能够进一步优化运行成本;搭配换热器使用时,还可将工艺气体的余热回收,供其他生产环节利用。

LARCH 系列 —— 面向工业制程高效处理的干式燃烧设备

LARCH

LARCH 为我司推出的终端废气处理设备,可处理 MOCVD 及 EUV 常规工艺中常见的大流量氢气、氨气,以及小流量金属有机物、硅烷等废气。该系统的核心优势包括:投资与运行成本低廉、设计简洁稳固、环境影响小—— 无二氧化碳排放、氮氧化物排放量极低,且不产生废水;设备维护间隔可达六个月以上。

LARCH PLUS

LARCH PLUS 是我司 LARCH 终端废气处理设备系列的最新升级款。该产品的推出,旨在满足氮化镓(GaN)与极紫外光刻(EUV)领域日益增长的产能需求,可处理大流量氢气、氨气,以及小流量金属有机物、硅烷等废气。

LARCH PLUS 的核心优势包括:投资与运行成本低廉、设计简洁稳固、环境影响小—— 无二氧化碳排放、氮氧化物排放量极低,且不产生废水;设备维护间隔可达六个月以上。

LARCH —— 优化您的废气处理方案

针对 LED 与 GaN 行业 MOCVD 工艺,优化终端废气处理方案

LARCH – 技术参数和配置选项

LARCH (热分解)

以氢气和氨气为主要成分的废气首先被加热,促使氨气发生热解反应。随后,氢气由电加热元件引燃,与吸入反应釜的环境空气中的氧气混合燃烧。燃烧过程中释放的反应焓,将被用于预热后续通入的废气。

净化后气体中的剩余热能,需先通过换热器或空冷方式进行散热,之后再排入大气。该工艺的反应产物为氮气与气态水。处理后的废气无需再经额外处理即可直接排放至环境中,完全符合德国《空气质量控制技术规范》(TA Luft)的标准要求。

咨询和技术选型

我们的应用专家将在现场勘察分析后,为您甄选适配的技术方案。其中,工艺设备、真空泵、气体种类及流量信息,以及可用的运行物料,均为核心决策依据。

为确保系统长期稳定运行及设备高可用性,自设备调试启用之日起,我们将根据需求提供按需或现场技术支持与售后服务。